最終清洗機(jī)-華林科納CSE
華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來(lái)與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開(kāi)發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動(dòng)系列濕法處理設(shè)備
設(shè)備用途:
?清洗槽用于6/8吋兼容，集成電路制造工藝的最終清洗。配合LOAD and UNLOAD的上下料，實(shí)現(xiàn)干進(jìn)干出，每批次50枚Cassette Type的高效清洗。共有三種工藝槽，三水槽+一個(gè)干燥單元：
1個(gè)DHF清洗槽、1個(gè)OF槽、1個(gè)SC-1槽、1個(gè)QDR槽、1個(gè)SC-2槽、1個(gè)QDR槽、1個(gè)干燥槽。
設(shè)備功能:
●Chemical BATH: 自動(dòng)換酸，自動(dòng)洗槽，自動(dòng)槽內(nèi)配比。
●DIW BATH : Pre Flow and After Change Function。
●S/D : 6/8 Inch 自動(dòng)換位，旋干。
●機(jī)械手臂:Chuck Open/Close Type，Speed 為可控變動(dòng)；
●Scheduler: 排程計(jì)算，實(shí)現(xiàn)多批次同時(shí)清洗，不發(fā)生Process Over Time。
●Safety: Door，TEMP，LEVEL，Exhaust…等等INTERLOCK Safety。
設(shè)備工藝流程:
●進(jìn)貨區(qū)(LOAD)→DHF(100:1)→OF 槽→SC-1 槽→QDR 槽→SC-2 槽→QDR 槽→S/D 槽→→出貨區(qū)(UNLOAD)
●High WPH Type: AWB200-T。雙Cassette 50 枚/槽。
●6/8 inch 兼容Cassette Type。
●前面式機(jī)械手臂: ARM-1、ARM-2、ARM-3 共三套。
●機(jī)臺(tái)上部設(shè)有高效過(guò)濾器（FFU)。
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工藝技術(shù)指標(biāo):
1. 該設(shè)備應(yīng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)作業(yè)，可自動(dòng)過(guò)程控制工藝、沖水及干燥全套作業(yè)，
并具備自動(dòng)供液、自動(dòng)洗槽、SC1-1槽帶有兆聲；可編程選擇工藝槽及工
藝時(shí)間進(jìn)行清洗。
2. 通過(guò)DHF/SC-1/SC-2完成最終清洗工藝，對(duì)圓片表面沾污及顆粒實(shí)現(xiàn)有效
清洗。顆粒要求0.2um，0.16um作為參考，金屬1E10。
3. N2過(guò)濾精度：0.01μm 。
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