3月20日，第二屆華林科納泛半導(dǎo)體濕法培訓(xùn)會(huì)在華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司成功舉辦。這屆培訓(xùn)會(huì)以“以聲共匯平臺，以友共筑數(shù)據(jù)”的主題面向芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測試、材料和設(shè)備以及下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)鏈多個(gè)群體。培訓(xùn)會(huì)進(jìn)一步聚焦泛半導(dǎo)體濕法行業(yè)發(fā)展新動(dòng)態(tài)、新趨勢、新技術(shù)及創(chuàng)新項(xiàng)目，深入探討濕法工藝的發(fā)展模式和行業(yè)發(fā)展趨勢。
中環(huán)科技、協(xié)鑫集團(tuán)、三安光電、有研硅股、天科合達(dá)、中電科集團(tuán)研究所、中科院半導(dǎo)體所、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科大等多家單位代表出席培訓(xùn)會(huì)，國內(nèi)近50家半導(dǎo)體知名企業(yè)與大學(xué)研究所80余人參加培訓(xùn)會(huì)。
本次培訓(xùn)會(huì)面向濕制程設(shè)備實(shí)際使用者，主要由濕法行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者華林科納牽頭，匯集了濕法工藝&設(shè)備、濕制程的化學(xué)品知識、水處理知識、超聲/兆聲清洗知識、專業(yè)計(jì)量儀器應(yīng)用知識等產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的優(yōu)秀課程。每個(gè)課程的演講者都是來自國際一流或者國內(nèi)頂尖的供應(yīng)鏈，無一不代表著當(dāng)下產(chǎn)業(yè)內(nèi)的領(lǐng)先水平。
課程首先由華林科納項(xiàng)目總監(jiān)高艷帶來的《濕法設(shè)備與工藝解析》，深入淺出的原理介紹了濕法清洗在半導(dǎo)體領(lǐng)域的影響。制程工藝每推進(jìn)一代，清洗步驟增加約15%。半導(dǎo)體器件集成度和芯片復(fù)雜度的提高，使得芯片對雜質(zhì)的敏感度大大提升。在工藝節(jié)點(diǎn)不斷推進(jìn)的前提下，為了降低雜質(zhì)影響、提高良率，需要繼續(xù)增加清洗步驟。
而受當(dāng)前國際疫情形勢影響，且國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)在國家的大力發(fā)展下，本土清洗設(shè)備市場國有化率約為20%，國產(chǎn)化有望進(jìn)一步加快。與國外日本公司占據(jù)清洗機(jī)行業(yè)主導(dǎo)地位相比，以華林科納為代表的國產(chǎn)濕法設(shè)備制造商在槽式領(lǐng)域已具有一定競爭力。
在分析了濕法設(shè)備的市場背景后，高總監(jiān)從通用的RCA清洗工藝知識的展開，介紹了各種SC1、SC2、HF/BOE等Chemical在清洗過程中起到的作用及效果分析，鞭辟入里地從專業(yè)的角度對濕法清洗設(shè)備關(guān)于Clean、Etch、Photoresist Removal & Development Process的相關(guān)工藝的影響與效果進(jìn)行了闡述與分析。
另外，華林科納特約各領(lǐng)域?qū)I(yè)講師也分別從濕法相關(guān)的純水機(jī)知識、濕法過程中使用的化學(xué)品、超聲/兆聲清洗工藝原理以及在濕法設(shè)備中的應(yīng)用、精密儀器在濕法設(shè)備中的應(yīng)用、廢液廢氣的處理方案等專業(yè)領(lǐng)域?qū)M(jìn)行了分享，全程會(huì)議干貨滿滿，收獲頗豐。
結(jié)合理論授課，在華林科納實(shí)訓(xùn)廳，各供應(yīng)鏈專業(yè)制造商也提供實(shí)物給學(xué)員們能夠近距離的觀測設(shè)備與零件?，F(xiàn)場，專業(yè)工程師對全自動(dòng)酸腐蝕機(jī)、化學(xué)品恒溫機(jī)、Marangoni干燥機(jī)、智能配液機(jī)等各種核心裝備進(jìn)行了原理、使用注意點(diǎn)、維護(hù)保養(yǎng)知識的講解，打造了一個(gè)高水平、高開放度和高自由度的培訓(xùn)交流平臺。
由華林科納打造的千級濕法實(shí)驗(yàn)室，用于提供濕法工藝實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證和核心功能模塊演示服務(wù)。在此次培訓(xùn)會(huì)首次對外開放，也迎來了首批使用者，來自清華大學(xué)的張老師在濕法實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行了背面腐蝕的實(shí)驗(yàn)。
序號 | 類別 | 實(shí)驗(yàn)名稱 |
1 | 刻蝕 | Si Etch | 硅片刻蝕 | Metal lift off | 金屬剝離 |
SiGe Etch | 鍺化硅刻蝕 | Stress Release | 薄膜應(yīng)力控制 |
Film Release | 脫膜處理 | Glass Etch | 玻璃刻蝕 |
TGV Etch | 玻璃通孔刻蝕 | Oxide Removel | 氧化物清除 |
GaAs Etch | 碑化嫁刻蝕 | Al Etch | 鋁刻蝕 |
Ti Etch | 鈦刻蝕 | GaN Etch | 氨化嫁刻蝕 |
Cu Foil Etch | 銅鋁箱刻蝕 | SiC Etch | 碳化硅刻蝕 |
Al203 Etch | 氧化鋁刻蝕 | InP Etch | 磷化鋼刻蝕 |
Cu Etch | 銅刻蝕 |
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2 | 清洗 | Wafer Clean | 晶圓清洗 | Wafer Edge Clean | 晶圓邊緣清洗 |
Glass Clean | 玻璃清洗 | Quartz Tube Clean | 石英爐管清洗 |
Mask Clean | 光罩清洗 | Film Frame Clean | 薄膜支架清洗 |
Auto Brush Clean | 自動(dòng)毛刷清洗 |
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3 | 電（化學(xué)）鍍 | Electroplate(Au,Ti,Ag) | 電鍍（銅、鎳、金、錫、銀） | ChemicalPlating(Cu,Ni,Cr,Sn) | 化學(xué)鍍（銅、鎳、鉻、錫） |
4 | 干燥 | Spin dryer | 旋轉(zhuǎn)甩干 | IPA dryer | 異丙醇干燥 |
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基于首屆泛半導(dǎo)體濕法培訓(xùn)會(huì)的基礎(chǔ)，本屆培訓(xùn)會(huì)，主辦方華林科納進(jìn)一步提升專業(yè)化、新型化、高端化，提升大會(huì)的品牌形象和影響力，確立了“高標(biāo)準(zhǔn)、專業(yè)性”的要求，促進(jìn)了行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域的成長，彌補(bǔ)供需雙方的痛點(diǎn)和盲區(qū)，充分展示了技術(shù)聚集的優(yōu)勢，增強(qiáng)了企業(yè)間的互助與合作。
華林科納泛半導(dǎo)體濕法培訓(xùn)會(huì)議將每半年舉辦一次，進(jìn)行常態(tài)化舉辦。作為國內(nèi)最早期進(jìn)入濕法設(shè)備領(lǐng)域的品牌，主辦方華林科納即將完成由設(shè)備制造商向技術(shù)型服務(wù)商轉(zhuǎn)變的過程，爭取為中國半導(dǎo)體行業(yè)的人才培養(yǎng)、技術(shù)演進(jìn)貢獻(xiàn)出自己的力量。