半導體濕法工藝實驗平臺于2019年完成建設，實驗室提供濕法工藝實驗驗證和核心功能模塊演示服務。

由于工藝實驗涉及納米尺度的工藝，對實驗環(huán)境有特定的需要，因此配備了專門的隔離空間及回風過濾系統(tǒng)，也配備了超純水DIW、壓縮干燥空氣CDA以及廢氣處理系統(tǒng)等工藝輔助設施，已能夠滿足用戶產(chǎn)品及工藝的快速驗證。

濕法刻蝕清洗可以提供2”-12”晶圓的濕法刻蝕實驗臺、超聲兆聲清洗實驗臺、IPA干燥慢提拉實驗機、甩干機（立式、臥式）、CDS供液系統(tǒng)等不同類型的設備，能夠滿足絕大多數(shù)用戶在刻蝕、清洗、電（化學）鍍、干燥的工藝驗證需求。具體可進行驗證工藝實驗名稱見下表：

核心功能模塊演示包括超聲兆聲功能、自動配液功能、循環(huán)功能、過濾功能、加熱功能、制冷功能、恒溫功能、拋動晃動功能等。

?自動配液：主要用于濕法腐蝕清洗等工序需要使用的腐蝕液集中進行配送，經(jīng)管道配送至使用端；具有自動化程度高、配比精確（達到2‰）、操作簡便等特點，具有耐腐蝕性，可適用于：HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等。

CDS自動配液機

?恒溫控溫：采用電子冷熱交換器，當設定好制程藥液所需溫度，由控制單元精準控制，則無需別的操作。通過外接循環(huán)水的溫度，將藥液溫度控制精度達到±0.5℃，電子冷熱器內(nèi)部溫度控制精度達到±0.1℃，保證多批次清洗、刻蝕效果一致。

電子冷熱交換器工作原理示意圖

電子冷熱交換器

?IPA干燥：IPA干燥是利用IPA的低表面張力和易揮發(fā)的特性，取代硅片表面的具有較高表面張力的水分，然后用熱N2吹干，達到徹底干燥硅片水膜的目的。

?離心甩干：離心甩干通過外力使晶片短時間內(nèi)達到高速旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)，晶片表面的水受到離心力作用而從表面消失的干燥技術。這種干燥方式由于簡單可靠，在晶片清洗領域得到了廣泛應用。根據(jù)晶片運動方式的不同，離心甩干又分為立式離心甩干（0~3000轉(zhuǎn)）和水平式離心甩干（0~1200轉(zhuǎn)），雖然二者的脫水原理相似，但是由于運動方式的不同，在工藝上有很大的差異。

?超聲兆聲：超聲兆聲主要針對Particle清洗，不同頻率擅長清洗不同大小的顆粒。

超聲兆聲結構示意圖

隨著以 SiC（碳化硅）、GaN（氮化鎵）和 GaAs(砷化鎵)為代表的第三代半導體材料及器件的開發(fā)，作為新興半導體產(chǎn)業(yè)的核心和基礎，其研究開發(fā)呈現(xiàn)出日新月異的發(fā)展勢態(tài)。

新的材料的引入必將帶來新的技術變革，實驗平臺基于半導體技術未來發(fā)展趨勢，將在以SiC、GaN和GaAs為襯底材料的特種半導體濕法工藝開展先導技術開發(fā)，為新技術的測試驗證提供免費的服務，在現(xiàn)有工藝技術基礎上深挖技術潛能，全面促進已有技術在新行業(yè)背景下的應用。

半導體濕法工藝實驗平臺建設于華林科納（江蘇）半導體設備有限公司內(nèi)，位于長三角沿海城市南通如皋，地理位置優(yōu)越，交通便捷。